卷对卷PECVD石墨烯制备设备主要应用于计算机和智能手机屏幕，超轻、柔性的太阳能电池，以及新型的发光设备和其他薄膜电子产品

半导体PECVD设备气相沉积系统适用于在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜质量好，针孔较少，不易龟裂，适用于制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件，可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。

单温区旋转PECVD石墨烯制备系统用于制备石墨烯，是一种 “低温、直接生长” 的技术。它尤其适合在非金属基底（如绝缘衬底）上生长石墨烯，避免了从金属催化剂转移的复杂过程

卷对卷式太阳能电池片PECVD气相沉积系统是等离子增强型化学气相沉积设备（PECVD），并加装了收放卷装置。本设备可用于线材的连续化热处理工艺中，如碳纤维制备、合金及其他材料线材改性处理等应用中。也适合用于石墨烯在卷材上的连续生长。

二氧化硅薄膜沉积等离子增强CVD系统由等离子发生器，三温区管式炉、单温区管式炉、射频电源、真空系统组成。等离子增强CVD系统为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应。

CY-PECVD50R-1200-Q是一款光学薄膜PECVD等离子增强型CVD系统。此系统由150W射频电源、单温区管式炉、3通道质子流量计控制系统、性能优异的真空泵组成。