磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是...

桌面型小型蒸发镀膜仪，可提供*大100A的镀膜电流，最大蒸发温度可达1800℃，...

静电纺丝机能够提供连续稳定流量的液体，且供液速度可调能够满足不同类型纺丝溶液的需...

晶体生长炉配有2英寸的石英管，精密提拉机。用于在气氛保护环境下或密封石英坩埚环境...

桌面型双靶直流磁控镀膜仪可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备...

设计用于在加热或熔化过程中搅拌样品以获得更均匀的反应。摇摆台可自动设置摇摆频率和...

热蒸发镀膜仪的物理过程主要包括材料的蒸发、气态粒子的输运以及在基底上的沉积成膜。...

真空快速热压炉将真空/气氛、热压成型、高温烧结结合在一起，适用于粉末冶金、功能陶...

下置四靶磁控镀膜仪为桌面型靶下置型磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，将设备外形限制...

本设备是一款真空快速热压炉(VRHP)，专为真空(或气氛保护)环境下通过快速热压...

PLD脉冲激光溅射沉积设备系列设备主要用于生长光学晶体、铁电体、铁磁体、超导体和...

三温区真空管式炉（直径100mm，长度1400mm）主要用于稀土制备、电子照明、...