PEALD等离子增强原子层沉积系统是一种的薄膜沉积技术，结合了等离子体和原子层沉积（ALD）的优点，以实现更高的薄膜质量、更低的沉积温度和更广泛的材料兼容性。PEALD系统在微电子、光电器件、表面工程等领域中有着广泛的应用

三温区PECVD气相沉积石墨烯制备系统用于制备石墨烯，是一种 “低温、直接生长” 的技术。它尤其适合在非金属基底（如绝缘衬底）上生长石墨烯，避免了从金属催化剂转移的复杂过程

晶圆镀膜设备PECVD气相沉积在超大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用

热阴极直流等离子体化学气相沉积系统（DCCVD）是在常规冷阴极辉光放电基础上发展起来的，主要用于金刚石单晶或多晶膜的沉积生长

本产品为PECVD​旋转等离子加强CVD系统。PECVD-R​旋转等离子加强CVD设备十分适合在气氛保护的环境下连续对粉末材料用CVD方法进行包裹和修饰。

PECVD化学气相沉积系统采用等离子体增强型化学气相沉积技术，能够利用高能量等离子体促进反应过程，有效提升反应速度，降低反应温度