旋转粉末磁控溅射镀膜仪主要用于粉体材料、颗粒材料的包覆制备,用于改善粉体或颗粒的表面性能、分散性能、稳定性能，赋予其导电性、耐腐蚀性等新功能。

光纤绕丝单靶磁控溅射镀膜仪是一种用于制备薄膜的设备。它可以在基板表面形成均匀、致密、薄且具有特定性质的膜层。

单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪，专用于光纤制备薄膜,采用不锈钢高真空腔体，配有带挡板的观察窗，可以观察镀膜过程，挡板则能有效防止观察窗被膜层遮蔽，便于实验的观察记录。腔体上顶开式设计开启方便，易于清理，十分适合实验室使用。整机采用模块化设计，操作逻辑简单，操作界面直观，利于上手

非导电薄膜等离子磁控溅射镀膜仪是一款紧凑型2英寸单头射频等离子磁控溅射系统，涂有非金属，主要是氧化物薄膜。磁控溅射镀膜仪将所有元件集成到一层立式机柜中，包括射频电源、石英真空室、真空泵、再循环冷水机组和薄膜厚度监控器等。

小型粉末PVD包覆磁控镀膜仪系统是一款小型粉末包覆系统，主要有2英寸磁控溅射头和振动样品台组成。小型粉末PVD包覆系统粉末在振动样品台上振动翻滚，通过溅射在粉末表面进行包覆形成核壳结构。直流磁控溅射适合粉体表面包覆金属材料.射频磁控溅射适合材料表面包覆非金属材料或碳。

三靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频)我公司研发的实验室专用镀膜仪，典型的高速低温溅射。三靶磁控溅射镀膜仪可选配直流电源，和射频电源，功率从500W-1000W不等。