真空磁控溅射镀膜仪主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热公转台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。真空磁控溅射镀膜仪广泛应用于科研院所、实验室制备单层或多层薄膜，以及新材料、新工艺研究。

可程控磁控溅射镀膜仪为单腔室结构，主要由溅射真空室、磁控溅射靶、离子轰击、公转基片台、光加热系统、溅射电源、工作气路、真空获得系统、安装机台、真空测量、水冷却及报警系统和控制系统等组成。

四靶磁控溅射镀膜仪带过渡仓可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等