单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪，专用于光纤制备薄膜,采用不锈钢高真空腔体，配有带挡板的观察窗，可以观察镀膜过程，挡板则能有效防止观察窗被膜层遮蔽，便于实验的观察记录。腔体上顶开式设计开启方便，易于清理，十分适合实验室使用。整机采用模块化设计，操作逻辑简单，操作界面直观，利于上手

单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪，专用于光纤制备薄膜,采用不锈钢高真空腔体，配有带挡板的观察窗，可以观察镀膜过程，挡板则能有效防止观察窗被膜层遮蔽，便于实验的观察记录。腔体上顶开式设计开启方便，易于清理，十分适合实验室使用。整机采用模块化设计，操作逻辑简单，操作界面直观，利于上手.

单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪是一种常见的物**相沉积（PVD）技术，用于制备各种薄膜材料。其工作原理是使用一种叫做磁控溅射的技术，将高纯度的金属或合金靶材溅射生成离子和中性原子，并将它们沉积在基底上形成薄膜。在这种溅射系统中，使用单个靶材，通常是金属或合金的圆盘形，通过在靶材上施加高电压和磁场，将靶材表面的粒子加速并喷向基底。由于基底通常是经过高温处理过的，因此溅射的金属粒子会快速扩散并形成均匀的薄膜。

为了增加溅射速率和膜质量，光纤绕丝技术被引入其中。在光纤绕丝技术中，将纤维绕在靶材和基底之间，形成一条薄薄的缝隙。通过调整靶材和基底之间的距离并控制溅射能量，可以更加**地控制沉积在基底上的薄膜的厚度和组成。

光纤绕丝溅射镀膜仪是一种用于制备薄膜的设备。它可以在基板表面形成均匀、致密、薄且具有特定性质的膜层。

这种溅射系统非常适合制备高质量、高纯度、均匀性好的金属和合金薄膜，广泛应用于微电子、光学、电池、太阳能电池等领域。

1. 光学薄膜制备：用于制作高反射、抗反射等光学薄膜。

2. 电子器件制备：用于制备半导体器件、导电膜等。

3. 光学器件制备：用于制备太阳能电池、液晶显示器、LED等器件。

4. 防护涂层制备：用于制备具有防水、防油、防紫外线、防磨损等性能的涂层。

总的来说，光纤绕丝溅射镀膜仪广泛应用于科研和工业领域中的薄膜制备。

光纤镀膜仪技术参数: