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三靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频)
简要描述:

三靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频)我公司研发的实验室专用镀膜仪,典型的高速低温溅射。三靶磁控溅射镀膜仪可选配直流电源,和射频电源,功率从500W-1000W不等。

  • 产品型号:CY-MSH300-III-DCDCRF-SS​
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-09-07
  • 访  问  量:85

详细介绍

品牌CYKY价格区间10万-30万
产地类别国产应用领域电子/电池,钢铁/金属,航空航天,制药/生物制药,汽车及零部件

三靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频)为我公司研发的实验室专用镀膜仪,设备可选配直流电源,和射频电源,功率从500W-1000W不等,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。
磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点,镀膜速率高,样品温升低,是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层,水冷机能够有效的带走热量,避免热量在靶面聚集,使磁控镀膜能长时间稳定工作。

设备经过紧凑化设计,实现了体积与性能的平衡,造型美观功能齐全。整机均采用触控屏控制,内置一键式镀膜程序,操作简单易上手,是一款实验室制备薄膜的理想设备。  

三靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频)技术参数:  

 

项目  

明细  

产品型号  

CY-MSH300-III-DCDCRF-SS  

供电电压  

AC220V50Hz  

整机功率  

4KW  

系统真空  

5×10-4Pa  

样品台  

尺寸  

φ140mm  

控温精度  

±1  

加热温度  

*500  

转速  

1-20rpm可调  

磁控溅射头  

数量  

2" x3 1",2"可选)  

水冷机规格  

10L/min流速的循环水冷机  

冷却方式  

水冷  

真空腔体  

腔体尺寸  

Dia.300mm×300mm  

观察窗口  

φ100mm  

开启方式  

上顶开式  

腔体材料  

不锈钢  

质量流量计  

2路;量程100sccm100sccm(可根据客户需要定制多路气路)  

真空系统  

 

 

 

产品型号  

CY-GZK103-A  

抽气接口  

CF160  

分子泵  

CY-600  

排气接口  

KF40  

前极泵  

旋片泵  

真空测量  

复合真空计  

极限真空  

1.0E-5Pa  

供电电源  

AC;220V 50/60Hz  

抽气速率  

分子泵:600L/S  旋片泵:1.1L/S  综合抽气性能:20分钟真空度可达: 1.0E-3Pa  

电源配置  

数量  

直流电源x2  射频电源 x1  

*大输出功率  

直流电源500W 射频电源500W  

膜厚测量  

可选配石英晶体膜厚仪,分辨率0.10 Å  

控制系统  

CYKY自研专业级控制系统  

整机尺寸  

600mm X 650mm X 1280mm  

整机重量  

300kg  


  








 





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