小型粉末PVD包覆磁控镀膜仪系统是一款小型粉末包覆系统，主要有2英寸磁控溅射头和振动样品台组成。小型粉末PVD包覆系统粉末在振动样品台上振动翻滚，通过溅射在粉末表面进行包覆形成核壳结构。直流磁控溅射适合粉体表面包覆金属材料.射频磁控溅射适合材料表面包覆非金属材料或碳。

产品特点  

1、可对粉体材料进行表面包覆：采用磁控溅射，溅射时粉体材料在振动样品台上翻滚，达到粉体表面均匀包覆  

2、设备小巧可在手套箱内使用，可处理样敏感性材料  

技术参数  

1、输入电压：220 VAC 50/60Hz
2、电源输出:1600 VDC 250 W
3、ZUI大电流：150 mA .
4、溅射头：2英寸角度可调节溅射头
5、振动样品台：
样品台振动频率可调节：6-33Hz
样品台直径为50mm
建议样品量: < 500 mg
建议颗粒尺寸: 1 ~ 1000um
石英腔体尺寸：165 mm OD.×150 mm ID×250 mm H
6、真空度：
①1.0E-2 Torr（采用机械泵），可溅射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶
② 1.0E-5 Torr（采用分子泵），可溅射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金属靶*大真空度可达到< 4.0E-6 Torr（分子泵系统抽时间12小时，腔体进行烘烤）
7、CE认证  

产品规格  

外形尺寸：长460×宽330×高810mm  净重：20Kg  

注意事项  

警告：
1、溅射头与高压电源相连接，操作时必须佩带防护手套
2、溅射前必须确保靶材，溅射头，基片和样品台清洁，需要用砂纸和乙醇来清洗，Al或是Ni靶每次使用时都必须清洗和处理
注意：粉末样品必须干燥和分散