粉体包覆机磁控溅射镀膜机是通过粉未在溅射腔室内的旋转，以达到粉未表面均匀包覆的效果。腔室可旋转、倾斜，能快速出料。

单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等

3靶紧凑型磁控溅射镀膜仪是一种三头1“射频等离子体磁控溅射系统，设计用于非金属薄膜涂层，主要用于多层氧化物薄膜。紧凑型磁控溅射镀膜仪是研究新一代氧化薄膜*具成本效益的涂膜机。可根据金属薄膜沉积要求选择直流磁控溅射，可配置3个直流、1个射频/ 2个直流和2个射频/ 1个直流溅射头。

本设备为桌面型靶下置型磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，将设备外形限制在了桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电源，能够用于溅射金属材料，具有速度快温升低等特点。真空腔体整体采用下置靶设计，溅射效果好，杂质污染少，能*大限度的保护样品。

本设备为桌面型行星式单靶磁控镀膜仪，腔体下半部为不锈钢机构，上部为高纯石英，兼顾了真空性能和容纳复杂样品台的功能型。设备外形为桌面级别，大大减少了安装场地需求，用于金属及其他导电材料的溅射，非常适合用于各类镀膜试验

桌面型偏置靶单靶磁控镀膜仪配有一个直流电源，可用于金属及其他导电材料的溅射。单靶磁控镀膜仪真空系统采用涡轮分子泵组，抽气速度快，极限真空度高，真空性能优异。本设备结构紧凑功能完善便于使用，非常适合用于各类镀膜试验