桌面型磁控溅射镀膜仪上置靶枪是一种的物理气相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，通过磁场增强离子化效率，从而实现高质量、均匀的薄膜沉积。

桌面型磁控溅射镀膜仪下置靶枪是一种的物**相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，通过磁场增强离子化效率，从而实现高质量、均匀的薄膜沉积

D型腔体单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等

矩形腔室磁控溅射镀膜仪是一种利用磁控溅射技术进行薄膜沉积的高精度设备.其核心原理是通过在真空环境下，利用高能离子轰击靶材，使靶材原子或分子溅射出来并沉积在基片表面，形成均匀的薄膜

桌面型铝合金腔体单靶磁控溅射镀膜仪是一种紧凑型镀膜设备，采用磁控溅射技术在基片表面沉积薄膜

本设备为桌面型双靶磁控溅射镀膜仪不锈钢腔体，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备