三靶磁控溅射镀膜仪(直流)我公司研发的实验室专用镀膜仪，典型的高速低温溅射。三靶磁控溅射镀膜仪可选配直流电源功率从500W-1000W不等。

三靶磁控溅射镀膜仪(射频)我公司研发的实验室专用镀膜仪，典型的高速低温溅射。三靶磁控溅射镀膜仪可选配源功率从500W-1000W不等的射频电源。

双靶磁控溅射镀膜仪（双膜厚仪）是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选购；所配电源为300W射频电源加500W直流电源，直流电源可用于金属薄膜的制备，射频电源可用于非金属膜的制备。

双靶磁控溅射镀膜仪(直流+射频)典型的高速低温溅射实验室专用镀膜仪，磁控溅射镀膜仪(直流+射频)可选配直流电源和射频电源，功率从500W-1000W不等。

双靶磁控溅射镀膜仪(射频)高速低温溅射实验室专用镀膜仪，双靶磁控溅射镀膜仪可选配功率从500W-1000W不等的射频电源。

双靶磁控溅射镀膜仪(直流)高速低温溅射。双靶磁控溅射镀膜仪可选配功率从500W-1000W不等的直流电源。