磁控溅射镀膜仪带振动样品台为我公司研发的配有三个靶位的实验室专用于处理粉末及颗粒样品的镀膜仪，设备配有两台直流电源，一台射频电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等

台式紧凑型三靶磁控溅射镀膜仪是专为非金属薄膜镀膜设计的三头2“射频等离子磁控溅射系统，主要用于多层氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性价比*高的镀膜机 . 直流磁控溅射选项可根据要求提供金属薄膜沉积，实现三个直流、一个射频/两个直流和两个射频/一个直流溅射头配置

台式射频电源单靶磁控溅射镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。本型号配备射频电源，尤其适合非金属或其他非导电材料镀膜

​双靶DCRF磁控溅射镀膜仪配有一台直流电源，一台射频电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等往复式设计，​磁控溅射镀膜仪（往复样品台）的样品台采用往复式设计，左侧配有磁力耦合推杆，可将样品台左右推动。

磁控溅射镀膜仪主要由进样室、溅射室、出样室、基片传递机构、抽气及真空测量系统、气路系统、电控系统、安装机台等部分组成。此外,CY-in-line磁控溅射升级后，可达到5室结构进样室、三个独立的溅射室、出样室；增加射频电源，提供制备介质膜的功能，并能实现连续镀膜。

单室磁控溅射镀膜仪主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片水冷加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。磁控溅射镀膜仪可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。