​双靶DCRF磁控溅射镀膜仪配有一台直流电源，一台射频电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等往复式设计，​磁控溅射镀膜仪（往复样品台）的样品台采用往复式设计，左侧配有磁力耦合推杆，可将样品台左右推动。

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