台式紧凑型三靶磁控溅射镀膜仪是专为非金属薄膜镀膜设计的三头2“射频等离子磁控溅射系统，主要用于多层氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性价比*高的镀膜机 . 直流磁控溅射选项可根据要求提供金属薄膜沉积，实现三个直流、一个射频/两个直流和两个射频/一个直流溅射头配置

台式紧凑型三靶磁控溅射镀膜仪是专为非金属薄膜镀膜设计的三头2"射频等离子磁控溅射系统，主要用于多层氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性价比*高的镀膜机 . 直流磁控溅射选项可根据要求提供金属薄膜沉积，实现三个直流、一个射频/两个直流和两个射频/一个直流溅射头配置.

相较于单靶设备，三靶磁控溅射镀膜仪在保持紧凑设计的同时，大幅提升了功能性和效率，尤其适合多材料复合镀膜和高效科研/小规模生产。以下是其核心优点：

1. 一机多能，高效复合镀膜

• 三靶位设计：可同时装载不同靶材（如金属、氧化物、氮化物），无需破真空即可切换，实现多层膜/复合膜（如Au/TiN/ITO）的连续沉积。

• 应用扩展：满足梯度薄膜、异质结器件（如太阳能电池、半导体器件）的研发需求。

2. 节省时间与成本

• 减少换靶次数：传统单靶设备需反复抽真空换靶，三靶仪可一次完成多材料镀膜，效率提升50%以上。

• 靶材利用率高：磁控溅射靶材损耗低，降低实验耗材成本。

3. 镀膜均匀性与可控性更优

• 独立靶材控制：每个靶位可单独调节功率、气体流量，精准控制各层膜厚和成分（如调节Al₂O₃的氧含量）。

• 旋转基片台（可选）：提升膜层均匀性（±2%），适合光学涂层等高性能需求。

4. 紧凑设计，实验室友好

• 台式体积：占地不足1㎡，兼容手套箱或小型洁净台，适合空间受限的实验室。

• 模块化结构：靶位和真空腔体易于拆卸维护，升级灵活（如加装离子源、加热基台）。

5. 广泛的应用兼容性

• 科研领域：纳米多层膜、超硬涂层（TiAlN）、透明导电膜（ITO/Ag/ITO）。

• 工业试产：小型电子元件（MEMS、传感器）、装饰镀膜（仿金、仿铬）。

• 教学实训：直观展示多材料溅射工艺，培养薄膜技术人才。

台式紧凑型三靶磁控溅射镀膜仪技术参数：