磁控溅射镀膜仪主要由进样室、溅射室、出样室、基片传递机构、抽气及真空测量系统、气路系统、电控系统、安装机台等部分组成。此外,CY-in-line磁控溅射升级后，可达到5室结构进样室、三个独立的溅射室、出样室；增加射频电源，提供制备介质膜的功能，并能实现连续镀膜。

产品分类CLASSIFICATION

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详细介绍

品牌	CYKY	价格区间	10万-30万
产地类别	国产	应用领域	电子/电池,道路/轨道/船舶,钢铁/金属,航空航天,汽车及零部件

设备用途：

CY-MS磁控溅射镀膜仪用于在晶体硅表面沉积金属薄膜（Al、Ag、Ni、Cu、Ti、Pd等），并能够实现反应溅射，可完成高、低真空下磁控溅射镀膜工艺，具备较大尺寸和多种尺寸规格的晶体硅光伏电池薄膜的连续制备能力。

磁控镀膜仪典型应用：

• 科研领域：纳米材料、薄膜器件、光学涂层等研究。

• 电子行业：半导体、传感器、导电薄膜制备。

• 教学演示：材料科学、真空技术实验教学。

• 以下是磁控镀膜仪的典型实用案例，涵盖科研、工业及教学领域，体现其多功能性和广泛应用价值。

技术参数：

型号		CY-in-line
主溅真空室		方形真空室，尺寸Ø 1000×700×350mm
进样室		圆筒型，卧室，尺寸Ø 250×420mm
真空系统配置		分子泵与机械泵，闸板阀
极限压力	主溅射室	≦8*10^-5Pa（经烘烤除气后）
	进样室	≦6.6*10^-4Pa（经烘烤除气后）
恢复真空时间	主溅射室	40分钟可达到6.6*10^-4Pa（系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气）
	进样室	40分钟可达到6.6*10^-3Pa（系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气）
磁控靶组件		矩形靶尺寸约450*45mm；靶与样品距离80mm可调
基片加热台	基片结构	尺寸125125mm或156156mm，可一次安装4片样品
	加热温度	室温~400Ｃ±2 C，可控可调
气路系统		质量流量控制器3路
设备占地面积	主机	2655 * 930mm²
	电控柜	700 *700mm²（两个）

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