下置四靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜

分体式高真空双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。

桌面型磁控溅射镀膜仪下置靶枪是一种物理气相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，通过磁场增强离子化效率，从而实现高质量、均匀的薄膜沉积。

双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备

本设备为倾斜样品台式单靶磁控镀膜仪，样品台与靶面的角度可调，可用于制作特定生长角度的薄膜。设备外形为桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电源，可用于金属及其他导电材料的溅射。设备真空系统采用涡轮分子泵组，抽气速度快，极限真空度高，真空性能优异。本设备结构紧凑功能完善便于使用，非常适合用于各类镀膜试验。

往复样品台单靶磁控镀膜仪是一款紧凑高效的实验室级镀膜设备，采用磁控溅射技术，可在真空环境下实现金属、合金、氧化物等多种材料的均匀镀膜。桌面型单靶磁控镀膜仪小型化设计适合科研院所、高校实验室及企业研发中心，满足小样品镀膜需求，兼顾高精度、操作便捷和低成本的特点