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台式射频电源单靶磁控溅射镀膜仪
简要描述:

台式射频电源单靶磁控溅射镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备。本型号配备射频电源,尤其适合非金属或其他非导电材料镀膜

  • 产品型号:CY-MSZ180-I-RF-SS
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-09-06
  • 访  问  量:133

详细介绍

品牌CYKY

台式射频电源单靶磁控溅射镀膜仪本设备为单靶磁控镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备。本型号配备射频电源,尤其适合非金属或其他非导电材料镀膜。

   本套配置采用高真空不锈钢腔体,腔体设置带挡板的石英观察窗,便于实验的观察记录;腔体设计真空性能优良,造型小巧,十分适合实验室使用。同时设备配有旋转加热样品台,可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。整机采用模块化设计,操作逻辑简单,操作界面直观,利于上手。  

台式射频电源单靶磁控溅射镀膜仪
 

台式射频电源单靶磁控溅射镀膜仪技术参数:


产品名称

桌面型下置靶不锈钢腔体单靶磁控溅射镀膜仪

产品型号

CY-MSZ180-I-RF-SS

样品台

外形尺寸

φ100mm

加热温度

≦500℃

可调转速

≦20rpm

磁控靶枪

配一支两英寸磁控靶,靶材尺寸:直径50.8mm,厚度≦3mm

真空腔体

腔体尺寸

φ180mm X 215mm

观察窗口

全向透明

腔体材料

SUU304不锈钢

开启方式

上顶开式

真空系统

前级泵

低噪音双极旋片泵

分子泵

低噪音大抽速涡轮分子泵

真空测量

复合真空计,量程:10-5~105Pa

抽气接口

KF16

抽气接口

KF40

排气接口

KF16

系统真空

1.0×10-4Pa

供电电源

AC 220V 50/60Hz

抽气速率

分子泵抽速600L/s,前级抽速1.1L/s  

电源配置

电源数量

直流电源一套

输出功率

300W

其他参数

供电电压

AC220V,50Hz

整机功率

2kW

整机尺寸

550mm X 350mm X400mm



本设备为桌面型单靶磁控镀膜仪,经优化设计,结构紧凑,体积较小,特别适合放在实验桌上使用,可高效节省实验室的安装空间。设备配有射频电源,用于溅射非金属薄膜,同时具有速度快,温度低等特点。


       


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