双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备

桌面型双靶磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，在保留高真空不锈钢腔体的同时，精简了其他机构，将设备外形限制在了桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电源一个射频电源，直流靶可用于金属及其他导电材料的溅射，射频电源可用于各种非金属和金属氧化物等的溅射。设备真空系统采用全进口真空泵，抽气速度快，极限真空度高，真空性能优异。本设备结构紧凑功能完善便于使用，非常适合用于各类镀膜试验。

大功率直流磁控溅射镀膜仪是一款高功率台式磁控等离子溅射镀膜机 ，带有一个水冷2英寸靶头，冷水机和可旋转样品架。直流磁控溅射镀膜仪设计用于涂覆直径达4英寸的所有金属薄膜， 包括Zn、Al、Ti和碳光膜，价格合理。包含一个Al 目标以供立即使用。

本单靶磁控溅射镀膜仪配有一套磁控靶、一套300W的RF溅射电源(或一套500W的直流溅射电源或一套100W的偏压电源）。磁控溅射镀膜仪在镀膜时，可根据需要分别手工连接至直流溅射电源、偏压电源及RF溅射电源。

三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研制开发的一款性价比较高的磁控溅射镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

双靶磁控溅射镀膜仪CY-600-2HD为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。与同类设备相比，这款磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛，切体积小便于操作，是一款实验室制备薄膜的理想设备。