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双靶磁控溅射镀膜仪
简要描述:

双靶磁控溅射镀膜仪CY-600-2HD为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。与同类设备相比,这款磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛,切体积小便于操作,是一款实验室制备薄膜的理想设备。

  • 产品型号:CY-MSH500- II-DCRF-SS
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-09-07
  • 访  问  量:71

详细介绍

品牌CYKY价格区间5万-10万
产地类别国产应用领域电子/电池,道路/轨道/船舶,钢铁/金属,航空航天,汽车及零部件

双靶磁控溅射镀膜仪CY-600-2HD为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。与同类设备相比,这款双靶磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛,切体积小便于操作,是一款实验室制备薄膜的理想设备。

产品特点  

1:此款镀膜仪配置有两个靶枪:一个靶枪配套的是射频电源,用于非导电靶材的溅射镀膜;一个靶枪配套的是直流电源,用于导电材料的溅射镀膜  

2:该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜,应用非常广泛。  

3:该镀膜仪体积较小,且配备有触摸屏控制面板,操作方便。  

产品参数:

项目

明细

产品型号

CY-MSH500- II-DCRF-SS

供电电压

AC220V50Hz

整机功率

4KW

系统真空

5×10-4Pa

样品台

外形尺寸

φ140mm

加热温度

500℃

控温精度

±1

可调转速

20rpm

磁控靶枪

靶材尺寸

直径Φ50.8mm,厚度3mm

冷却模式

循环水冷

水流大小

不小于10L/Min

真空腔体

腔体尺寸

直径φ500mm,高度560mm

腔体材质

SUU304不锈钢

观察窗口

直径φ100mm

开启方式

顶开式

气体控制

1路质量流量计用于控制Ar流量,量程为:200SCCM

真空系统

配分子泵系统1套,气体抽速600L/S

膜厚测量

可选配石英晶体膜厚仪,分辨率0.10 Å

溅射电源

直流电源500W,射频电源500W

控制系统

CYKY自研专业级控制系统

设备尺寸

600mm   × 650mm × 1280mm

设备重量

350kg





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