桌面型双靶磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，在保留高真空不锈钢腔体的同时，精简了其他机构，将设备外形限制在了桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电源一个射频电源，直流靶可用于金属及其他导电材料的溅射，射频电源可用于各种非金属和金属氧化物等的溅射。设备真空系统采用全进口真空泵，抽气速度快，极限真空度高，真空性能优异。本设备结构紧凑功能完善便于使用，非常适合用于各类镀膜试验。

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