本单靶磁控溅射镀膜仪配有一套磁控靶、一套300W的RF溅射电源(或一套500W的直流溅射电源或一套100W的偏压电源）。磁控溅射镀膜仪在镀膜时，可根据需要分别手工连接至直流溅射电源、偏压电源及RF溅射电源。

产品型号

CY-MSH270-I-RF-Q

供电电压

AC220V，50Hz

整机功率

3KW

系统真空

≦5×10^-4Pa

样品台

尺寸

150mm

加热温度

≤500℃

旋转速度

1-20r/min

控温精度

±1℃

磁控溅射头

数量

2英寸 x1

冷却方式

水冷

真空腔体

腔体尺寸

φ270mm X 200mm

观察窗口

全向可视

开启方式

顶盖拆卸式

腔体材料

高纯石英

真空系统

机械泵

CY240

抽气接口

KF16

抽气速率

1.1L/s

分子泵

CY600

抽气接口

KF40

抽气速率

600L/s

排气接口

KF40

真空测量

电阻规+电离规

供电电源

AC;220V 50/60Hz

气体控制

1路质量流量计用于控制Ar流量，量程为:200SCCM

膜厚测量

可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 Å

控制系统

CYKY自研专业级控制系统

电源配置

直流电源数量

1台

输出功率

≤500W

输出电压

≤600V

响应时间

＜5ms

射频电源数量

1台

输出功率

≤1000W

功率稳定度

≤5W

测量精度

±0.5%

测量速度

100~1000ms

测量上限

50000