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三靶磁控溅射镀膜仪
简要描述:

三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研制开发的一款性价比较高的磁控溅射镀膜仪,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

  • 产品型号:CY-MSH300-III-DCDCRF-SS
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-09-07
  • 访  问  量:60

详细介绍

品牌CYKY价格区间1-5万
产地类别国产应用领域电子/电池,道路/轨道/船舶,钢铁/金属,航空航天,汽车及零部件

产品简介:三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研制开发的一款性价比较高的磁控溅射镀膜仪,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

三靶磁控溅射镀膜仪技术参数:


项目

明细

产品型号

CY-MSH300-III-DCDCRF-SS

供电电压

AC220V50Hz

整机功率

6KW

系统真空

5×10-4Pa

样品台

外形尺寸

φ150mm

加热温度

500℃

控温精度

±1

可调转速

20rpm

磁控靶枪

靶材尺寸

直径Φ50.8mm,厚度3mm

冷却模式

循环水冷

水流大小

不小于10L/Min

真空腔体

腔体尺寸

直径φ300mm,高度500mm

腔体材质

SUU304不锈钢

观察窗口

直径φ100mm

开启方式

顶开式

气体控制

1路质量流量计用于控制Ar流量,量程为:200SCCM

真空系统

配分子泵系统1套,气体抽速600L/S

膜厚测量

可选配石英晶体膜厚仪,分辨率0.10 Å

溅射电源

直流电源500W*2,射频电源500W

控制系统

CYKY自研专业级控制系统

设备尺寸

600mm   × 650mm × 1280mm

设备重量

350kg

 



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