单靶磁控溅射镀膜仪（射频）我公司研发的实验室专用镀膜仪，典型的高速低温溅射。单靶磁控溅射镀膜仪可选配500W-1000W不等的射频电源。

单靶磁控溅射镀膜仪(直流)我公司研发的实验室专用镀膜仪，典型的高速低温溅射。单靶磁控溅射镀膜仪可选配功率从500W-1000W的直流电源。

小型单靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有小型化、标准化的特点。磁控靶有1英寸、2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选择

真空磁控溅射镀膜系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶（三个靶）、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。磁控溅射镀膜系统广泛应用于科研院所，实验室制备单层或多层薄膜，以及新材料新工艺研究。

桌面型不锈钢腔体双靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备

​桌面型双靶直流磁控镀膜仪可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，尤其是实验室SEM样品制备，​双靶直流磁控镀膜仪采用旋转加热样品台，可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。