​桌面型双靶直流磁控镀膜仪可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，尤其是实验室SEM样品制备，​双靶直流磁控镀膜仪采用旋转加热样品台，可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。

桌面型双靶直流磁控镀膜仪本设备为实验室真空PVD镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。

以下是单靶磁控镀膜仪的典型实用案例，涵盖科研、工业及教学领域，体现其多功能性和广泛应用价值：

1. 科研领域——纳米光学薄膜制备

应用场景：某高校光学实验室利用Au靶（金靶）在玻璃基片上沉积纳米级金薄膜，用于表面等离子体共振（SPR）传感器研究。优势：

膜厚可控（10~200nm），均匀性高（±3%），确保光学性能稳定。

真空环境避免氧化，获得高纯度纳米金膜。

2. 电子行业——透明导电薄膜（ITO）镀膜

应用场景：柔性电子企业使用ITO靶（氧化铟锡）在PET塑料基材上镀制透明导电层，用于触摸屏电极。优势：

低功率溅射（RF模式）避免基材热损伤，膜层电阻≤100 Ω/sq。

桌面型设备节省空间，适合小批量试产。

3. 材料改性——刀具硬质涂层（TiN）

应用场景：机械加工实验室在高速钢刀具表面镀TiN（氮化钛）涂层，提升耐磨性。工艺要点：

通入氮气反应溅射，形成金黄色TiN膜，硬度达2000 HV。

基片加热至300°C，增强膜基结合力。

桌面型双靶直流磁控镀膜仪技术参数：