小型单靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有小型化、标准化的特点。磁控靶有1英寸、2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选择

小型单靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有小型化、标准化的特点。磁控靶有1英寸、2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选择；所配电源为150W直流电源，可用于金属溅射镀膜。镀膜仪配有通气接口，可以通入保护性气体，若客户需要通入混合气体，可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。仪器标配的涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。

本设备为单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。  

本套配置采用高真空不锈钢腔体，腔体设置带挡板的石英观察窗，便于实验的观察记录；腔体设计真空性能优良，造型小巧，十分适合实验室使用。同时设备配有旋转加热样品台，可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。整机采用模块化设计，操作逻辑简单，操作界面直观，利于上手。  

单靶磁控溅射镀膜仪适用范围：  

该设备可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，经过小型化设计，高度集成，体积小巧，可以放置于桌面上使用，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。  

小型单靶磁控溅射镀膜仪技术参数：