真空磁控溅射镀膜系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶（三个靶）、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。磁控溅射镀膜系统广泛应用于科研院所，实验室制备单层或多层薄膜，以及新材料新工艺研究。

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详细介绍

品牌	CYKY	价格区间	10万-30万
产地类别	国产	应用领域	电子/电池,道路/轨道/船舶,钢铁/金属,航空航天,汽车及零部件

真空磁控溅射镀膜系统设备用途：

用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。

磁控镀膜仪典型应用：

• 科研领域：纳米材料、薄膜器件、光学涂层等研究。

• 电子行业：半导体、传感器、导电薄膜制备。

• 教学演示：材料科学、真空技术实验教学。

• 以下是磁控镀膜仪的典型实用案例，涵盖科研、工业及教学领域，体现其多功能性和广泛应用价值：

真空磁控溅射镀膜系统技术参数：

真空室		圆筒型前开门结构，尺寸Ø450×40mm
真空系统配置		复合分子泵、机械泵、气动闸板阀、进口SMC气缸节流阀
极限压力		≤6.6 *10^-6 Pa。（经烘烤除气后）
恢复真空时间		25 分钟可达到≤6.6×10^-6 Pa。（短时间撰兹大气并充入干燥氮气后开始抽气）
磁控靶组件		永磁靶三套；靶材尺寸Ø60mm（其中一个可溅射磁性材料）；各靶射频滩射和直流裁射兼容；靶内水冷；三个靶可共同折向上面的样品中心；靶与样品距离 90~130mm可调；每个靶配进口 SMC 旋转气动挡板
单基片加热台	样品尺寸	Ø4英寸
	运动方式	基片可连续回转，转速 0－30 转/分
	加热	进口加热丝加热，zui高加热温度 600℃ ±1℃
	挡板形式	进口 SMC 转角气缸控制
气路系统		质量流量控制器 2 路
计算机控制系统		采用 PLC ＋工控机＋触摸屏全自动控制方式
可选配件		膜厚仪、气泵、水冷循环机
设备占地面积	主机	I000×1800mm²
	电控柜	900×600mm²

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