单靶磁控溅射镀膜仪（射频）我公司研发的实验室专用镀膜仪，典型的高速低温溅射。单靶磁控溅射镀膜仪可选配500W-1000W不等的射频电源。

产品型号：CY-MSH325- I-RF-SS
厂商性质：生产厂家
更新时间：2025-09-07
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详细介绍

品牌	CYKY	价格区间	5万-10万
产地类别	国产	应用领域	电子/电池,道路/轨道/船舶,钢铁/金属,航空航天,汽车及零部件

CY-MSH325- I-RF-SS单靶磁控溅射镀膜仪(射频)为我公司研发的实验室专用镀膜仪，设备可选配直流电源，和射频电源，功率从500W-1000W不等，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。
磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。

设备经过紧凑化设计，实现了体积与性能的平衡，造型美观功能齐全。整机均采用触控屏控制，内置一键式镀膜程序，操作简单易上手，是一款实验室制备薄膜的理想设备。

磁控镀膜仪典型应用：

• 科研领域：纳米材料、薄膜器件、光学涂层等研究。

• 电子行业：半导体、传感器、导电薄膜制备。

• 教学演示：材料科学、真空技术实验教学。

• 以下是磁控镀膜仪的典型实用案例，涵盖科研、工业及教学领域，体现其多功能性和广泛应用价值：

单靶磁控溅射镀膜仪(射频)技术参数：

项目		明细
产品型号		CY-MSH325- I-RF-SS
供电电压		AC220V，50Hz
整机功率		4KW
系统真空		≦5×10^-4Pa
样品台	外形尺寸	φ150mm
	加热温度	≦500℃
	控温精度	±1℃
	可调转速	≦20rpm
磁控靶枪	靶材尺寸	直径Φ50.8mm，厚度≦3mm
	冷却模式	循环水冷
	水流大小	不小于10L/Min
真空腔体	腔体尺寸	直径φ325mm，高度500mm
	腔体材质	SUU304不锈钢
	观察窗口	直径φ100mm
	开启方式	顶开式
气体控制		1路质量流量计用于控制Ar流量，量程为:200SCCM
真空系统		配分子泵系统1套，气体抽速600L/S
膜厚测量		可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 Å
溅射电源		射频电源500W
控制系统		CYKY自研专业级控制系统
设备尺寸		600mm × 650mm × 1280mm
设备重量		350kg

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单靶磁控溅射镀膜仪（射频）我公司研发的实验室专用镀膜仪，典型的高速低温溅射。单靶磁控溅射镀膜仪可选配500W-1000W不等的射频电源。

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