晶圆镀膜设备PECVD气相沉积在超大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用

产品型号

CY-PECVD-500T-SS

腔体尺寸

φ500

温区长度

200

射频电源

500W-

温度

1000℃-

前级泵

分子泵组

显示类型

T

温区

I-

水冷机

CW5200

腔体材质

SS

样品加热加热温度

RT-1000℃以上，温控精度：±1°C，采用控温表进行控温；

可调转速：1-20rpm可调

喷淋头尺寸

Φ90mm，喷淋头与样品之间电极间距40-100mm在线连续可调（可根据工艺调整），并带有标尺指数显示

样品台

直径200mm

沉积工作真空

0.133-133Pa（可根据工艺调整）

顶部法兰

可通过马达提升，基板更换方便，有可视口

基板台

基板台的线性和方位角运动，基板加热和温度控制，安装台和触摸屏控制，基板线性运动是手动控制的，基板旋转是由直流电动机控制的

真空腔体

前开门式，φ500mm X 500mm 不锈钢材质

观察窗

φ100mm 带挡板

质量流量计

六路质量流量计

气路数量

六路

承压范围

-0.15Mpa~0.15Mpa

量程

0~100 SCCM（氧气）

0~100 SCCM（CF4）

0~200 SCCM （SF6）

0~200 SCCM （氩气）

0~500 SCCM （其他气体空气）

0-500sccm （其他气体氮气）

流量控制范围

±1.5%

气路材料

304不锈钢

管道接口

6.35mm卡套接头

真空系统

前级泵：无油真空泵4.7L/S

分子泵：1200L/S

测量范围

1×10-5～1×105Pa

测量精度

1×10-5～1×10-4Pa ±40%的读数

1×10-4～1×105Pa ±20%的读数