PECVD化学气相沉积系统采用等离子体增强型化学气相沉积技术，能够利用高能量等离子体促进反应过程，有效提升反应速度，降低反应温度

产品型号

CY-PECVD-500T-SS

供电电源

AC220V 50Hz

射频电源

信号频率

13.56MHz

功率输出范围

0~300W

*大反射功率

100W

反射功率 (在*大功率时)

<5W

功率稳定性

±0.1%

工作腔体

加热温度

RT-400℃

温控精度

±1℃

样品台尺寸

Φ200mm

样品台转速

1-20rpm 可调

喷头尺寸

Φ200mm

距离

喷头与样品之间的距离40-100mm连续可调

沉积工作真空

0. 133- 133Pa （可根据工艺调整）

法兰

上翻盖设计，基材易更换，并有可视窗口

腔体

不锈钢材质, Φ500mm * 500mm

观察窗

Φ40mm

供气系统

通道数

定制

测量单位

质量流量计

测量范围

A 通道: 0～200SCCM for H2  

B 通道: 0～200SCCM for CH4

C 通道: 0～200SCCM for C2H4

D通道: 0～500SCCM for N2

E通道: 0～500SCCM for NH3

F通道: 0～500SCCM for Ar

测量精度

±1.5%F.S

工作压差

-0.15Mpa~0.15Mpa

连接管材质

304 不锈钢

气路

304 不锈钢针阀

进气和出气接口规格

1/4" 卡套接头

真空系统

前级泵抽速

4.7L/s

分子泵抽速

60L/s

真空测量

复合真空计, 范围10-5Pa ~   105Pa

真空度

5.0*10-3Pa

水冷机

冷却水温度

≦37℃

水流速

10L/min

功率

0.1KW

冷却功率

50W/℃

空压机

OTS-550

产品尺寸

1362*736*1434

产品重量

280公斤