高真空滑轨炉核心为一套滑道炉，实现加热及退火的功能，进气端配有高精度三路质量流量计，用以精确控制管内气氛；同时设备配有涡轮分子泵组，能够快速达到高真空环境，zui大程度的排除空气气氛对实验的干扰。滑道炉由1200℃标准单温区管式炉和高精度滑轨组成

1600℃水平闪烧炉可广泛应用于各类陶瓷材料的闪烧烧结工艺中，如：固体氧化物燃料电池领域、铁电热电陶瓷领域、固态电解质等领域中

RTP快速退火炉是一种用于半导体制造和材料处理的设备，RTP退火炉核心特点是快速升降温和jingque温控，RTP退火炉适用于短时高温工艺。

桌面RTP快速退火炉是一种用于半导体制造和材料处理的设备，RTP速退火炉核心特点是快速升降温和温控，RTP退火炉适用于短时高温工艺。

RTP快速退火炉是我公司自主研发的功能强大的加热设备。RTP退火炉采用进口红外加热管加热，造型新颖结构合理，炉体和炉管可以自由滑动，可实现快速升降温。

卤素灯RTP退火炉是一款12寸片快速退火炉，采用革新的加热技术，可实现真正的基底温度测量，不需要采用传统快速退火炉的温度补偿，温度控制精准，温度重复性高，客户包括国际上许多半导体公司及科研团队，是半导体制程退火工艺的理想选择