RTP快速退火炉是我公司自主研发的功能强大的加热设备。RTP退火炉采用进口红外加热管加热，造型新颖结构合理，炉体和炉管可以自由滑动，可实现快速升降温。

RTP快速退火炉是我公司自主研发的功能强大的加热设备。RTP退火炉采用进口红外加热管加热，造型新颖结构合理，炉体和炉管可以自由滑动，可实现快速升降温。

RTP退火炉主要功能和特点:   

1、更短的工艺时间；  

2、更快的升、降温速率；  

3、处理基片时杂质运动zui小；  

4、减少颗粒沾污；  

5、由于腔体体积不大，气氛纯度容易控制.  

RTP退火炉应用领域：  

1、活化离子注入杂质，形成超薄结合。离子注入是半导体制造工艺中非常重要的一道工序，是用来把改变导电率的搀杂材料注入半导体晶片的标准工艺技术。  

2、制作高质量的 SiO,膜层。IC 制造对氧化膜层提出了很高的要求其中zui基本的要求使膜层更薄，采用传统的技术即通过降低氧化反应的温度来降低氧化速率即会带来另一个问题，生长温度的降低会导致固定电荷和界面密度增加，影响氧化层质量。RTP热氧化工艺可以在合适的高温下实现短时间的氧化。另一方面，可以利用往腔体内通入氩或其它惰性气体来稀释氧气达到降低氧化速率的目的。  

3、用于金属硅化物合金形成。RTP退火炉被广泛地用于在器件中制备金属硅化物。  

RTP退火炉技术参数：