卤素灯RTP立式快速退火炉是一款8寸片快速退火炉,采用革新的加热技术,可实现真正的基底温度测量,不需要采用传统快速退火炉的温度补偿,温度控制**,温度重复性高,客户包括国际上许多半导体公司及科研团队,是半导体制程退火工艺的理想选择
高真空晶圆RTP快速退火炉由我公司自主研发的功能强大的加热设备。该产品采用进口红外线加热管加热,造型新颖结构合理,炉体和炉管可以自由滑动,可实现快速升降温
1200℃RTP退火炉是一款12寸片快速退火炉,采用革新的加热技术,可实现真正的基底温度测量,不需要采用传统快速退火炉的温度补偿,温度控制**,温度重复性高,客户包括国际上许多半导体公司及科研团队,是半导体制程退火工艺的理想选择
RTP快速退火炉管式主要用于完成材料制备过程中的快速热处理工艺工作。RTP快速退火炉用于金属硅化物合金形成。RTP快速退火炉被广泛地用于在器件中制备金属硅化物
RTP快速退火炉管式主要用于完成材料制备过程中的快速热处理工艺工作。退火炉用于金属硅化物合金形成。RTP快速退火炉被广泛地用于在器件中制备金属硅化物。