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5Kg粉体磁控溅射镀膜仪
简要描述:

5Kg粉体磁控溅射镀膜仪是大容量粉体颗粒专用真空 PVD 包覆设备,专为单次装载 5kg 粉末物料设计

  • 产品型号:CY-MSH325-5KG
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2026-08-12
  • 访  问  量:99

详细介绍

品牌CYKY价格区间10万-30万
应用领域半导体,机械设备腔体尺寸325mm×H420mm
腔体旋转转速0~20rpm 变频连续可调控温精度±1℃
标配靶头数量单靶适配靶材各类金属、合金、陶瓷、氧化物靶材
标配电源1台多弧电源冷却方式风冷
极限真空度5×10?? Pa基础工作气体高纯氩气

一、设备简介

5Kg粉体磁控溅射镀膜仪是大容量粉体颗粒专用真空 PVD 包覆设备,专为单次装载 5kg 粉末物料设计,依托磁控溅射物理气相沉积原理,配合腔体旋转、粉体翻滚振动机构,让粉体颗粒持续翻动、滚动,在每一颗粉体表面均匀沉积金属、合金、陶瓷、氧化物纳米薄膜;全程高真空密闭环境,薄膜致密、厚度可控、包覆均匀无团聚,适配科研小批量中试、新材料改性制备场景,由郑州成越科学仪器研发生产,兼顾实验室研发与小批量试制需求。

二、主要用途

粉体颗粒表面包覆改性:微米 / 纳米粉末外包覆导电层、抗氧化层、防腐层、绝缘层、催化层、抗菌层;

解决粉体痛点:粉体易氧化、团聚、导电性差、分散性不佳、界面相容性弱等问题;

可制备单层膜、多层复合膜、合金共溅射薄膜;

粉体样品 SEM 电镜导电镀金、镀银制样;

新材料配方工艺摸索、小批量中试包覆生产。

三、应用领域

新能源材料:锂电池正负极粉体、硅碳负极、石墨粉体包覆金属 / 碳基薄膜;固态电解质粉体改性、超级电容器电极粉体制备;

催化材料:催化剂粉末表面贵金属(PtAgAu)包覆,提升催化活性与稳定性;

粉末冶金 / 金属粉体:铁粉、铝粉、合金粉抗氧化镀层,提升粉体存储与烧结性能;

生物医药:药用粉体、羟基磷灰石粉体镀银抗菌涂层,生物陶瓷粉体表面改性;

光电与传感器:荧光粉、发光粉体、光学微球表面光学薄膜包覆;气敏传感粉体敏感层制备;

复合材料填料:二氧化硅、氧化铝、碳化硅无机填料金属化包覆,提升树脂、橡胶界面结合力;

科研理化测试:各类粉末扫描电镜(SEM)导电镀膜制样。

四、标准技术参数

产品名称

5Kg粉体磁控溅射镀膜仪

产品型号

CY-MSH325-5KG

粉体承载腔体系统

腔体尺寸

Φ325mm×H420mm304 不锈钢一体成型

腔体旋转转速

0~20rpm 变频连续可调

控温精度

±1℃

结构配置

内置搅拌打散条,防止粉体堆积包覆不均

观测部件

石英可视观察窗

多弧等离子靶体配置

标配靶头数量

靶头规格

圆柱形靶材:镍靶材,φ100X40

适配靶材

各类金属、合金、陶瓷、氧化物靶材

标配电源

1多弧电源

可选电源

直流电源,溅射电源

冷却方式

风冷

真空机组系统

极限真空度

≤5×10⁻⁴ Pa

多弧工作气压

DC0.1~0.5PaRF

抽气组合

650L/s 涡轮分子泵 + 无油前级真空泵

整机静态漏率

1×10⁻⁸ Pa·m³/s

气路供气系统

基础工作气体

高纯氩气

可选反应气体

氧气、氮气

气体控制

高精度质量流量控制器,量程 0~500sccm

整机测控系统

操控方式

PLC+10 英寸触摸屏全自动程控

工艺存储

可存储上30套镀膜工艺配方

选配配件

石英晶体膜厚仪,膜厚分辨率 0.1Å

安全防护

缺水、过压、过流、真空联锁全套报警保护

整机基础参数

输入供电

AC380V/50Hz

整机额定功率

5KW

设备外形尺寸

1100mm×920mm×1300mm

整机净重

580Kg

 


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