双靶磁控溅射镀膜仪（双膜厚仪）是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选购；所配电源为300W射频电源加500W直流电源，直流电源可用于金属薄膜的制备，射频电源可用于非金属膜的制备。

双靶磁控溅射镀膜仪（双膜厚仪）是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选购；所配电源为300W射频电源加500W直流电源，直流电源可用于金属薄膜的制备，射频电源可用于非金属膜的制备，两个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。若客户有其他镀膜需要，可以定制直流电源和脉冲电源，各型电源均有300W到1000W多种规格可选。  

镀膜仪具有两路高精度质量流量计，客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路，以满足复杂的气体环境构建需求；仪器标配的涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。 

另外本型号配置配有两个高精度膜厚仪，能够满足镀膜过程中膜厚检测需要，若客户有需要安装多个膜厚仪的需要也可以和我公司技术人员进行定制。

本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制，在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能，可以进一步提高您的实验效率。 

双靶磁控溅射镀膜仪（双膜厚仪）适用范围：  

该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。  

双靶磁控溅射镀膜仪技术参数：