三靶磁控溅射镀膜仪(直流)我公司研发的实验室专用镀膜仪，典型的高速低温溅射。三靶磁控溅射镀膜仪可选配直流电源功率从500W-1000W不等。

产品分类CLASSIFICATION

相关文章ARTICLES

详细介绍

品牌	CYKY	价格区间	10万-30万
产地类别	国产	应用领域	电子/电池,钢铁/金属,航空航天,制药/生物制药,汽车及零部件

CY-MSP300S-3DC三靶磁控溅射镀膜仪(直流)为我公司研发的实验室专用镀膜仪，设备可选配直流电源，和射频电源，功率从500W-1000W不等，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。

磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。

设备经过紧凑化设计，实现了体积与性能的平衡，造型美观功能齐全。整机均采用触控屏控制，内置一键式镀膜程序，操作简单易上手，是一款实验室制备薄膜的理想设备。

磁控镀膜仪典型应用：

科研领域：纳米材料、薄膜器件、光学涂层等研究。

电子行业：半导体、传感器、导电薄膜制备。

教学演示：材料科学、真空技术实验教学。

以下是磁控镀膜仪的典型实用案例，涵盖科研、工业及教学领域，体现其多功能性和广泛应用价值。

三靶磁控溅射镀膜仪(直流)技术参数：

项目	明细
产品型号	CY-MSH300-III-DCDCDC-SS
供电电压	AC220V，50Hz
整机功率	4KW
系统真空	≦5×10-4Pa
样品台	尺寸	φ140mm
	控温精度	±1℃
	加热温度	最高500℃
	转速	1-20rpm可调
磁控溅射头	数量	2" x3 （1",2"可选）
	水冷机规格	10L/min流速的循环水冷机
	冷却方式	水冷
真空腔体	腔体尺寸	Dia.300mm×300mm
	观察窗口	φ100mm
	开启方式	上顶开式
	腔体材料	不锈钢
质量流量计	2路；量程100sccm；100sccm（可根据客户需要定制多路气路）
真空系统	产品型号	CY-GZK103-A
	抽气接口	CF160
	分子泵	CY-600
	排气接口	KF40
	前极泵	旋片泵
	真空测量	复合真空计
	极限真空	1.0E-5Pa
	供电电源	AC220V 50/60Hz
	抽气速率	分子泵：600L/S 旋片泵：1.1L/S 综合抽气性能：20分钟真空度可达：1.0E-3Pa
电源配置	数量	直流电源x3
电源配置	最大输出功率	直流电源500W
膜厚测量	可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10Å
控制系统	CYKY自研专业级控制系统
整机尺寸	600mmX650mmX1280mm
整机重量	300kg

产品咨询