粉末磁控溅射镀膜仪是一种用于在基材表面沉积薄膜的设备，利用磁控溅射技术将粉末状的靶材转化为薄膜覆盖在基材上

高真空三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备

分体式高真空三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备

桌面型单靶直流磁控溅射镀膜仪是一种物理气相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，通过磁场增强离子化效率，从而实现高质量、均匀的薄膜沉积

桌面型双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备

下置四靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备