本设备为桌面型射频磁控溅射镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。本型号配备射频电源，尤其适合非金属或其他非导电材料镀膜。

双靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备

UPS三靶磁控溅射镀膜机是我公司自主研发的高性价比的磁控溅射镀膜设备。 它是标准化，模块化和可定制的。该装置可用于制备单层或多层铁电薄膜，导电膜，合金膜，半导体膜，陶瓷膜，介电膜，光学膜，氧化物膜，硬膜，PTFE膜等。 与同类设备相比，这种三靶磁控溅射镀膜机不仅用途广泛，而且具有体积小，操作简便的优点，是实验室制备材料膜的理想设备。

磁控溅射真空蒸发复合型镀膜设备将磁控溅射技术和真空蒸发技术结合在同一镀膜设备里，既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜，同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其汽化再沉积在基材上成膜。增加了设备的用途和灵活性。该设备应用于手机壳等塑料表面金属化，应用于不导电膜和电磁屏蔽膜沉积。

桌面型磁控溅射镀膜仪上置靶枪是一种物理气相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，通过磁场增强离子化效率，从而实现高质量、均匀的薄膜沉积

双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备