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桌面型双靶磁控溅射镀膜仪
简要描述:

桌面型双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备

  • 产品型号:CY-MSZ254-II-DC-SS
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-09-06
  • 访  问  量:147

详细介绍

品牌其他品牌价格区间5万-10万
产地类别国产应用领域能源,电子/电池,钢铁/金属,汽车及零部件,电气
真空腔体直径≦100mm的平面样品均可样品台尺寸直径≦100mm的平面样品均可
磁控靶普通永磁靶,可调角度靶材尺寸直径2英寸,厚度≦3mm,
溅射功率溅射功率

本设备为双靶磁控镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备。

本套配置采用高真空不锈钢腔体,腔体设置带挡板的石英观察窗,便于实验的观察记录;腔体设计真空性能优良,造型小巧,十分适合实验室使用。同时设备配有旋转加热样品台,可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。整机采用模块化设计,操作逻辑简单,操作界面直观,利于上手。

技术参数:

产品名称

桌面型不锈钢腔体双靶磁控溅射镀膜仪

产品型号

CY-MSZ254-II-DC-SS

样品台

外形尺寸

φ100mm

可调转速

≦20rpm

磁控靶枪

配两支两英寸磁控靶,靶材尺寸:直径50.8mm,厚度≦3mm

真空腔体

腔体尺寸

φ254mm X 300mm

观察窗口

前置式

腔体材料

304不锈钢

开启方式

上盖开启及前开门

真空系统

前级泵

低噪音双极旋片泵

分子泵

低噪音大抽速涡轮分子泵(选配)

真空测量

复合真空计,量程:10-5~105Pa

抽气接口

KF16

排气接口

KF16

系统真空

1.0×10-4Pa

供电电源

AC 220V 50/60Hz

抽气速率

前级泵抽速1.1L/s 

电源配置

电源数量

直流电源一套

输出功率

直流电源500W

其他参数

供电电压

AC220V,50Hz

整机功率

2kW

整机尺寸

550mm X 350mm X450mm

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