Product Center

产品中心

当前位置:首页  >  产品中心  >    >  磁控溅射镀膜仪  >  CY-MSZ194-I-DC-SS桌面型单靶直流磁控溅射镀膜仪

桌面型单靶直流磁控溅射镀膜仪
简要描述:

桌面型单靶直流磁控溅射镀膜仪是一种物理气相沉积设备,广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术,通过磁场增强离子化效率,从而实现高质量、均匀的薄膜沉积

  • 产品型号:CY-MSZ194-I-DC-SS
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-09-06
  • 访  问  量:159

详细介绍

品牌其他品牌价格区间5万-10万
产地类别国产应用领域能源,电子/电池,钢铁/金属,汽车及零部件,电气
真空腔体直径≦100mm的平面样品均可样品台尺寸直径≦100mm的平面样品均可
磁控靶普通永磁靶,可调角度靶材尺寸直径2英寸,厚度≦3mm,
溅射功率溅射功率

本设备为单靶磁控镀膜仪,可用于金属薄膜的制备,在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用,也可实验室SEM样品制备。

本套配置采用高真空不锈钢腔体,腔体设置带挡板的石英观察窗,便于实验的观察记录;腔体设计真空性能优良,造型小巧,十分适合实验室使用。同时设备配有旋转加热样品台,可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。整机采用模块化设计,操作逻辑简单,操作界面直观,利于上手。

磁控溅射镀膜仪

磁控溅射镀膜仪技术参数:

产品名称

桌面型不锈钢腔体单靶直流磁控溅射镀膜仪

产品型号

CY-MSZ194-I-DC-SS

样品台

外形尺寸

φ100mm

加热温度

≦500℃

可调转速

≦20rpm

磁控靶枪

配一支两英寸磁控靶,靶材尺寸:直径50.8mm,厚度≦3mm

真空腔体

腔体尺寸

φ194mm X 263mm

观察窗口

φ50mm

腔体材料

304不锈钢

开启方式

上盖开启式            

真空系统

前级泵

低噪音双极旋片泵

分子泵

低噪音大抽速涡轮分子泵

真空测量

复合真空计,量程:10-5~105Pa

抽气接口

KF16

抽气接口

KF40

排气接口

KF16

系统真空

1.0×10-4Pa

供电电源

AC 220V 50/60Hz

抽气速率

分子泵抽速60L/s,前级泵抽速1.1L/s 

电源配置

电源数量

直流电源一套

输出功率

直流电源500W

其他参数

供电电压

AC220V,50Hz

整机功率

2kW

重量

80kg

整机尺寸

550mm X 450mm X750mm


产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
400-800-1730
欢迎您的咨询
我们将竭尽全力为您用心服务
wjb@cykeyi.com
扫码加微信
版权所有 © 2025 郑州成越科学仪器有限公司  备案号:豫ICP备13020029号-4

TEL:13837189935

扫码加微信