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针对35TSPS(放电等离子烧结)炉的详细设计方案,涵盖设备架构、关键技术创新、工艺控制策略及典型应用场景,适用于超硬材料(如金刚石-金属复合材料)、纳米陶瓷、高熵合金等高性能材料的快速致密化烧结:1.设备核心指标最大压力:35吨(可扩展至50T)升温速率:100-500°C/min(最高温度2200°C)真空度:10⁻³Pa(可选气氛:Ar/N₂/H₂)脉冲电流:DC脉冲(峰值5000A,频率1...
真空程控型匀胶机是一种通过真空吸附基片、程序化控制转速曲线实现液体/胶状材料精密成膜的关键设备,广泛应用于半导体、光电子等领域的薄膜制备。真空程控型匀胶机工作时将样品用粘接的方法固定在载样盘上,然后开动匀胶机将设备转数设置在一定的转数范围内,在此转数范围内设置一定的注胶时间对样品进行注胶,注胶结束后匀胶机会提升转数限转数进行匀胶,在匀胶之前要对匀胶时间进行设置,当匀胶时间结束后机器自动停止运转,涂膜的整个过程结束。产品优点:75W直流无刷电机,单片机控制。高清晰文本显示器。...
真空钎焊炉的温度场模拟及工艺优化是提升钎焊质量、减少变形和残余应力的关键。以下是系统化的解决方案框架,涵盖数值模拟方法、工装设计优化及工艺参数调控:1.温度场数值模拟流程1.1模型建立几何模型:包含炉膛、加热元件、隔热层、工件(母材+钎料)、工装夹具。示例:航天铝合金薄壁结构(如蜂窝板)需细化网格至钎料层(0.1-0.2mm)。材料参数:温度依赖的热物性参数(导热系数、比热容、密度)、辐射率(高温下主导传热)。钎料熔化特性(固液相变潜热、润湿角模型)。1.2控制方程与边界条件...
等离子清洗机的腔体设计是设备性能的核心,需综合考虑等离子体均匀性、工艺稳定性、维护便利性及安全性。以下是关键设计要点和方案:1.腔体结构设计几何形状:圆柱形腔体:常用,利于等离子体均匀分布,适合射频(RF)或微波激发。矩形腔体:多用于大型或批量化生产,需配合多电极设计保证均匀性。特殊结构:如球形腔体(用于高均匀性要求)或环形腔体(适合连续处理)。尺寸优化:根据工件尺寸和产能需求确定容积,避免过大(功率浪费)或过小(处理不均)。示例:处理300mm晶圆时,腔体直径需≥400mm...
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