四靶磁控溅射镀膜仪带过渡仓可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

产品型号

CY-MSH500X-IIII-DCDCDCRF-SS

样 品 台

外形尺寸

φ150mm

控温精度

±1℃

加热范围

室温～900℃

可调转速

1-20rpm 可调

磁 控 靶 枪

溅射方向

向下溅射

摆头靶角度可调范围

-45~45度，配备气动快门

靶材尺寸

直径4英寸，厚度≦3mm

绝缘电压

>2000V

数量

4英寸摆头靶3个；4英寸直靶一个

冷却方式

水冷

真 空 腔 体

腔体类型

D型腔

腔体尺寸

Φ500mm × 500mm

腔体材料

304 不锈钢

观察窗口

石英窗口，直径φ100mm

开启方式

前门开启

气 体 控 制

流量控制

3路质量流量计：

量程 0～500SCCM；

量程 0～100SCCM

量程 0～20SCCM 

双极脉冲磁控溅射电源

输入电压 380VAC±10%，三相四线制，50-60Hz

输出功率 0-5KW

输出电压 0-1000V

输出电流 *大9A（恒功率时）

输出频率 1KHz -150KHz

输出特性 恒流/恒功率/恒压

冷却方式 风冷

通讯方式 0-5V或0-10V模拟量RS-485

负载持续率 100%

数量 1台

射 频 电 源

电源功率

1000W

功率输出范围

0W-1000W

*大输出功率

1000W

*大反射功率

130W

射频频率

13.56MHz+/-0.005%稳定性

数量

1台

直 流 电 源

功率 

1000W 

数量

2台

分 子 泵

分子泵抽速

1200L/S

冷却方式

水冷

真空度

9.0×10⁻⁴Pa

前级泵抽气速率

4L/S

复合真空计

量程 10⁻⁵Pa ~ 10⁵Pa

数量

1套

真空阀

电控气动阀

过渡舱

腔体尺寸要适用于*大6英寸的晶圆

配备分子泵组：

前级泵：VRD-4，抽速1.1L/s

分子泵：日本TG60F，抽速60L/s

膜厚测量仪

数量：1套

通道数：单通道

测量精度：1Å

标准传感器石英晶体：6MHz

适用石英晶体尺寸：φ14mm

水冷机

温度控制范围：10～25℃

额定制冷量：0.75kW

流量：10L/min

冷却水：纯净水

空压机

转速：1380 转/分钟

流量：40 升/分钟

额定排气压力：0.7 兆帕

控制系统

PLC + 14.3 英寸触摸屏