详细介绍
品牌 | CYKY |
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化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition, CVD) 是一种用于制备高性能固体材料薄膜的技术。其核心原理是:将含有构成薄膜元素的一种或几种气态反应物通入反应室,在基片(如硅片)表面发生化学反应,并生成固态薄膜沉积下来。
1200℃三通道CVD气相沉积系统设计紧凑,使用方便。特别是丰富的图文界面,即使您是**操作,该系统也能顺利引导您很快掌握该CVD系统的使用和操作,您根本无需专业学习,为您节省大量的科研时间,真正做到事倍功半!
产品特点:
1、丰富的图文信息:全尺寸液晶图文界面
2、系统高度集成:各个部分均由软件协同进行数据采集、交换、处理、输出
3、可使实验步骤程序化、自动化
1200℃三通道CVD气相沉积系统技术参数:
项目 | 明细 |
供电电压 | AC220V,50Hz |
MAX功率 | 5KW |
加热温区 | 220mm+440mm+220mm |
工作温度 | 1100℃ (1200℃<1h) |
控温精度 | ±1℃ |
升温速率 | 建议≤10℃/min |
控温方式 | AI-PID 30段工艺曲线,可存储多条 三温区独立控制,带有过热和断偶保护 |
炉管材质 | 高纯石英 |
炉管尺寸 | φ60mm O.D×1300mm L |
气体通道 | 三通道质量流量计 |
气体量程 | A:100sccm B:300sccm C:500sccm |
系统真空 | 5~10Pa(如需更高真空度可以选配其他的泵) |
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