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1200℃三通道CVD气相沉积系统
简要描述:

1200℃三通道CVD气相沉积系统主要由:材料加热、真空获取、气体测量和等离子发生器四大部分构成。可以满足日常的大多数CVD实验和各种科研要求。该CVD系统是材料制备过程中的理想之选。

  • 产品型号:CY-CVD1200-60-220-3TH-Q
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-09-07
  • 访  问  量:63

详细介绍

品牌CYKY

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition, CVD) 是一种用于制备高性能固体材料薄膜的技术。其核心原理是:将含有构成薄膜元素的一种或几种气态反应物通入反应室,在基片(如硅片)表面发生化学反应,并生成固态薄膜沉积下来。

1200℃三通道CVD气相沉积系统设计紧凑,使用方便。特别是丰富的图文界面,即使您是**操作,该系统也能顺利引导您很快掌握该CVD系统的使用和操作,您根本无需专业学习,为您节省大量的科研时间,真正做到事倍功半!  

产品特点:  

1、丰富的图文信息:全尺寸液晶图文界面  

2、系统高度集成:各个部分均由软件协同进行数据采集、交换、处理、输出  

3、可使实验步骤程序化、自动化  


1200℃三通道CVD气相沉积系统技术参数:


项目

明细

供电电压

AC220V,50Hz

MAX功率

5KW

加热温区

220mm+440mm+220mm

工作温度

1100℃ (1200℃<1h)

控温精度

±1℃

升温速率

建议≤10℃/min

控温方式

AI-PID 30段工艺曲线,可存储多条

三温区独立控制,带有过热和断偶保护

炉管材质

高纯石英

炉管尺寸

φ60mm O.D×1300mm L

气体通道

三通道质量流量计

气体量程

A:100sccm   B:300sccm  C:500sccm

系统真空

5~10Pa(如需更高真空度可以选配其他的泵)


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