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  • 晶圆级PECVD气相沉积设备

    晶圆级PECVD气相沉积设备大尺寸二硫化钼制备CVD设备包括三温区管式炉,特殊设计的炉管及配套气路一组,晶圆级大尺寸二硫化钼制备CVD设备通过特殊设计的管路,能够将反应气体均匀的释放于炉管。

    更新日期:2025-09-06
    厂商性质:生产厂家
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