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晶圆级PECVD气相沉积设备
简要描述:

晶圆级PECVD气相沉积设备大尺寸二硫化钼制备CVD设备包括三温区管式炉,特殊设计的炉管及配套气路一组,晶圆级大尺寸二硫化钼制备CVD设备通过特殊设计的管路,能够将反应气体均匀的释放于炉管。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-09-06
  • 访  问  量:81

详细介绍

品牌CYKY

晶圆级PECVD气相沉积设备(1150 三温区 3路MFC)

本设备为基于CVD原理设计的晶圆级大尺寸二硫化钼制备装置。包括三温区管式炉,特殊设计的炉管及配套气路一组。该设备通过特殊设计的管路,能够将反应气体均匀的释放于炉管,确保后端晶圆上的产物的一致性和均匀性。是二硫化钼制备实验的。

特点

1.特殊管路设计,反应气体均匀的释放

2.二硫化钼制备

晶圆级PECVD气相沉积设备技术参数:

产品型号

CY-O1200-120III-IC-3Z-MoS2

炉管材质

高纯石英

炉管规格

外部大石英管 φ120mm x1000mm

内部小石英管  φ25mm x820mm x7根

温区长度

三温区200mm+200mm+200mm

控温精度

±1℃

温度曲线

三温区独立控温,每个温区均可设置30段时间温度曲线

工作温度

0~1150℃

升温速率

≤10℃/min

进气系统

三路质量流量计Ar气0~500sccm

N2气0~200sccm

H2气0~200sccm

配有七路分气、混气气路及混气灌。

炉管法兰

不锈钢水冷法兰,配有KF16真空接口,机械式真空计及不锈钢针阀

供电要求

AC 220V 50Hz  4kW

控制方式

7英寸触控屏

真空泵

双极旋片真空泵

真空度

理论极限真空度10^-1Pa




 

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