激光镀膜仪系统由真空腔室（主溅射室、进样室）、样品传递机构、样品架、旋转靶台、真空排气、真空测量、电器控制、配气、计算机控制等各部分组成。激光镀膜设备广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。

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详细介绍

品牌	CYKY	价格区间	1-5万
产地类别	国产	应用领域	建材/家具,电子/电池,道路/轨道/船舶,钢铁/金属,汽车及零部件

激光镀膜仪系统由真空腔室（主溅射室、进样室）、样品传递机构、样品架、旋转靶台、真空排气、真空测量、电器控制、配气、计算机控制等各部分组成。激光镀膜设备广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。

激光镀膜仪用途：

激光镀膜设备用于生长光学晶体、铁电体、铁磁体、超导体和有机化合物薄膜材料，适用于生长高熔点、多元素及含有气体元素的复杂层状超晶格薄膜材料。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。

激光镀膜设备技术参数：

主真空室		球型结构，尺寸Ø 450mm
进样室		圆筒型立式结构，尺寸Ø 150x 150mm
真空系统配置	主真空室	分子泵与机械泵，阀门
真空系统配置	进样室	分子泵与机械泵（与主真空室共用），阀门
极限压力	主真空室	≦6*10-6Pa（经烘烤除气后）
极限压力	进样室	≦6*10-3Pa（经烘烤除气后）
恢复真空时间	主真空室	20分钟可达到5*10-3Pa（系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气）
恢复真空时间	进样室	20分钟可达到5*10-3Pa（系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气）
旋转靶台		靶材*大尺寸约60mm；可一次安装4块靶材，可实现公转换靶;每块靶材可自转，转速5~60转/分
基片加热台	样品尺寸	Ø51
	运动方式	基片可连续回转，转速5~60转/分
	加热温度	基片加热zui高温度800Ｃ±1 C，可控可调
气路系统		质量流量控制器1路，充气阀1路
可选部件	激光器装置	配相干201激光器
	激光束扫描装置	二维扫描机械平台，执行两自由度扫描
	计算机控制系统	控制的内容主要有公转换靶，靶自转，样品自转、样品控温、激光束扫描等
设备占地面积	主机	1800 * 1800mm2
设备占地面积	电控柜	700 *700mm2（1个）

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