多源真空蒸发镀膜仪采用前开门式真空腔体设计，腔体空间大，可拓展性强，能够满足多样式大尺寸样品的蒸发镀膜。腔体内配有上置样品台，可根据用户样品样式选取夹持或卡位式样品安装部件。样品台可旋转、加热及升降，所有操作均通过触控屏集成控制。设备的真空泵组为两级式真空系统，由双极旋片真空泵和涡轮分子泵组成，可为真空镀膜试验提供清洁无油的高真空的环境；真空系统内含有完善的气动阀系统，用户可通过触控屏进行一键式操作实现抽取真空、不停机取放样、停机等操作。
日常维护：
腔体清洁：
镀膜结束后，待腔体冷却至室温，用无尘布蘸取无水乙醇擦拭内壁，去除残留镀料粉尘。
若沉积了铝等金属膜层，可定期（每200次镀膜后）使用氢氧化钠饱和溶液反复擦洗真空室内壁，使膜层与碱反应脱落，再用清水冲洗干净。
部件防护：
清理电极、钨舟或钼舟残渣，避免下次使用时飞溅。
在金属接口处涂抹少量凡士林或抗氧化剂，防止氧化腐蚀。
系统状态检查：
观察机械泵油是否乳化或变黑，及时更换。
检查分子泵运行噪音是否异常，每月监测振动与转速稳定性。
关键系统维护要点：
真空系统维护：
保持机械泵、分子泵散热良好，定期清理风扇灰尘。
若真空度无法达标（如长期低于10⁻⁴ Pa），应排查漏气点或更换冷阱吸附剂。
蒸发源维护：
电阻加热源（如钨舟）使用后清除残余材料，避免下次加热时爆裂。
电子束蒸发源需检查聚焦线圈与偏转系统，防止束流偏移导致镀膜不均。
控制系统与传感器校准：
定期校验石英晶体膜厚监控仪的频率-厚度转换系数。
检查温度传感器、真空计读数准确性，避免因数据偏差影响工艺重复性。
扫码加微信