1200℃三温区3路质量供气高真空CVD系统由三温区管式炉、三路质量流量计和高真空分子泵组组成。管式炉三个温区分别由精密控温仪表独立控温，通过调节各个温区的温度，该管式炉可以在加热区内形成三段温度梯度或是形成较长的恒温区域。每个温区均可编辑30段升降温程序，同时有过热和断偶保护功能。

1500℃单温区3路质量流量计高真空CVD系统由1500℃单温区管式炉、三路质量流量计和高真空分子泵组组成。管式炉由精密控温仪表进行PID控温，可编辑30段升降温程序，同时有过热和断偶保护功能。炉管两侧法兰配有数字式真空计和机械式压力表，可以用来控制炉管内的气氛环境。采用高清真彩触控屏操作，简单易上手，即使是非专业人员经过简单的培训也可以熟练掌握仪器的使用方法，能够极大的提高您的实验效率。

1200℃双温区三路气体高真空CVD气相沉积系统，真空度可达6.67x10-6Pa），两个温区独立控制加热，实验操作更加方便。超高温加热元件，额定工作温度可达1150℃。 主要用于真空烧结、气氛保护性烧结、真空镀膜、各种材料锻烧、需要温度梯度的各种CVD实验。 该产品造型优美、做工精细，测温精准、控温稳定。

1600三温区CVD气相沉积系统主要用于真空烧结、气氛保护性烧结、真空镀膜 各种材料煅烧、需要温度梯度的各种CVD实验