桌面型偏置靶单靶磁控镀膜仪配有一个直流电源，可用于金属及其他导电材料的溅射。单靶磁控镀膜仪真空系统采用涡轮分子泵组，抽气速度快，极限真空度高，真空性能优异。本设备结构紧凑功能完善便于使用，非常适合用于各类镀膜试验

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