本设备为桌面型靶下置型磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，将设备外形限制在了桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电源，能够用于溅射金属材料，具有速度快温升低等特点。真空腔体整体采用下置靶设计，溅射效果好，杂质污染少，能*大限度的保护样品。

留言框

• 产品：

• 您的单位：

• 您的姓名：

• 联系电话：

• 常用邮箱：

• 省份：

  请选择您所在的省份 安徽 北京 福建 甘肃 广东 广西 贵州 海南 河北 河南 黑龙江 湖北 湖南 吉林 江苏 江西 辽宁 内蒙古 宁夏 青海 山东 山西 陕西 上海 四川 天津 新疆 西藏 云南 浙江 重庆 香港 澳门 中国台湾 国外

• 详细地址：

• 补充说明：

• 验证码：

  

  请输入计算结果（填写阿拉伯数字），如：三加四=7