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桌面型铝合金腔体单靶磁控溅射镀膜仪
简要描述:

桌面型铝合金腔体单靶磁控溅射镀膜仪是一种紧凑型镀膜设备,采用磁控溅射技术在基片表面沉积薄膜

  • 产品型号:CY-MSZ200-I-DC-AL
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-09-07
  • 访  问  量:58

详细介绍

品牌CYKY价格区间5万-10万
产地类别国产应用领域电子/电池,道路/轨道/船舶,钢铁/金属,航空航天,汽车及零部件

桌面型铝合金腔体单靶磁控溅射镀膜仪是一种紧凑型镀膜设备,采用磁控溅射技术在基片表面沉积薄膜。其核心特点包括:

铝合金真空腔体:轻量化设计,耐腐蚀性好,适合实验室或小规模生产环境。

单靶配置:支持单一靶材(如金属、合金或氧化物),结构简单,操作便捷。

磁控溅射技术:利用磁场约束等离子体,提高溅射效率,形成均匀、致密的薄膜。

桌面设计:体积小巧,适合科研院所、高校实验室等空间有限的场所。

应用领域:

该设备广泛用于材料科学、光学、电子等领域,具体包括:

光学薄膜:如增透膜、反射膜、滤光片等。

电子器件:半导体电极、导电薄膜(如ITO)、传感器涂层。

功能材料:耐磨涂层(如TiN)、防腐涂层、超硬薄膜(类金刚石)。

科研实验:新材料开发、薄膜性能测试、教学演示等。

磁控溅射镀膜仪技术参数:  

产品名称

桌面型铝合金腔体单靶磁控溅射镀膜仪

产品型号

CY-MSZ200-I-DC-AL

样品台

外形尺寸

φ50mm

旋转

自转+公转角度倾斜2英寸

可调转速

≦20rpm

磁控靶枪

配一支两英寸磁控靶,靶材尺寸:直径50.8mm,厚度≦3mm

真空腔体

腔体尺寸

φ180mm X 150mm

腔体材料

铝合金

开启方式

上盖拆卸式

真空系统

真空测量

复合真空计,量程:10-5~105Pa

抽气接口

KF25

系统真空

1.0E-1Pa(机械泵)

供电电源

AC 220V 50/60Hz

输出功率

直流电源500W

其他参数

供电电压

AC220V,50Hz

整机功率

2kW

 

30kg

整机尺寸

385X450X420mm


       


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